產品中心
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OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PE-CVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐，預熱爐（作用為使固體原料蒸發）和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD，方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。
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GSL-1700X-F3LV是一款CE認證的管式爐CVD系統，其真空泵采用雙旋片式，混氣系統采用三路浮子供氣系統，*高溫度可以達到1700°C，真空度可達到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。
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三溫區三通道混氣CVD系統是一款通過CE認證的三溫區管式爐CVD系統，其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機械泵，混氣系統為3路浮子混氣系統。此高溫爐燒結溫度可達1700℃，真空度可達到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。
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九通道混氣高真空CVD系統GSL-1700X-80-HVC9 is CE certified 80mm diameter alumina tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases f
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GSL-1700X-4-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統，其爐管直徑為4英寸，它是由二路質子混氣系統和高真空機組組成，其*高工作溫度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr?；鞖庀到y可以對兩種氣體進行**的混氣，然后導入到管式爐內部。
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RTP-1000D4HV is a compact rapid thermal processing tube (4" I.D.) furnace with Compact Turbomolecular Vacuum Pump Station and KF-D25 vacuum flange. It is designed for annealing semiconductor wafer or
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該系統由開啟式真空管式爐、多路氣體混合系統、高真空系統（機械泵+分子泵）組成。主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等。 我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定（含采購商ISO14000的環境體系要求），不會造成環境污染； 該產品符合含采購商OHSMS18000職業**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產品的人員健康造成傷害
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脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。我公司依據實驗要求設計制作該款設備以適應各類薄膜研究的需要。 我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定（含采購商ISO14000的環境體系要
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This is a super-miniture PECVD furncce with 3" diameter x 16" L glass chamber and complete acessories for the research of various film deposition. The sample zone of plasma furnace can be heated to 25
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OTF-1200X-4-C4LVS is a special dual tube CVD system designed for growing thin film on the metal foil, especially for preparing flexible electrode on metallic foil for new generation energy research.
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OTF-1200X-4-RTP3CHV, the whole system includes one compact RTP 4" tube furnace, one 4L/min water chiller and a mobile station with three channels gas flow control (MFC) and high vacuum station (molecu
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EQ-RTP1000-LV3C is 4" I.D RTP (rapid thermal processing) tube furnace with three flowmeters and one machanical pump up to 10-3 torr vacuum. It is designed for annealing semiconductor wafer & solar cel
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GSL-1600X-80-HV is a CE certified high temperature alumina tube furnace with high vacuum system. It can be heat up to 1600oC by MoSi2 heating element and achieve vacuum pressure up to 10 -5 torr with
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GSL-1600X-4-F3LV is a CE certified 4" alumina tube furnace with mechanical vacuum pump and three channels gas flowing system, which can achieve vacuum degree up to 5x10-2 torr and mix 1- 3 type of g
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為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD） 我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定（含采購商ISO14000環境體系的要求），不會造成環境污染； 該產品符合含采購商OHSMS18000職業**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產品的人員健康造成傷害！
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OTF-1200X-4-III-9HV is CE certifed 4" diameter split three zone tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of OTF-1200X-4-III-9HV是一款CE認證的九通道高真空三溫區CVD系統，齊爐管直徑為4英寸，它是由九通道質量流量控制器和高真空機組組成，其*高溫度可達1200℃，極限真空可達to 10^-5 torr，混氣系統可以對1-9種氣體進行精-確的混氣，然后導入到管式爐內部，用來研究氣體環境對材料的影響。