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GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸發鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭，可同時蒸發兩種不同種材料。對于實驗研究，這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設備。
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OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），*大升溫速率為20oC/s 。采用PID方式進行溫度調節，可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口，可配用控
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VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。